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Cuadro de plomo para semiconductores

Nombre De La Marca:	XHS/ Customized
Número De Modelo:	Las costumbres
Cuota De Producción:	10
Precio:	50-100USD
Condiciones De Pago:	T/T
Capacidad De Suministro:	10000-100000pcs / semana

Información detallada

Descripción del Producto

Información detallada

Lugar de origen:

China.

Certificación:

ISO 9001, ISO 14001

Materiales:

Las demás partidas de cobre

Espesor:

0.02 mm - 1,5 mm

Las normas de seguridad:

+/- 0,005 mm

Proceso de producción:

Fotografía Química grabado, recubrimiento, estampado, corte por láser

Detalles de empaquetado:

Bolsas y cajas de cartón PE / personalizadas

Capacidad de la fuente:

10000-100000pcs / semana

Resaltar:

Conchas de grabado químico

Con un contenido de aluminio superior a 300 g/m2

Grabación química en semiconductores

Descripción del Producto

Cuadro de plomo para semiconductores

Xinhaisen - 13 años experto en grabado fotoquímico certificado ISO
Se especializa en marcos de plomo de semiconductores y componentes metálicos de precisión.

Especificaciones:

El material	Las aleaciones de latón
Las aleaciones de latón	+/- 0,005 mm
Forma de las piezas	Personalizado
Aplicaciones	Envases de circuitos integrados de semiconductores
Técnica	Grabación química, recubrimiento, estampado, corte por láser
Características	No hay burrs, no hay punto roto y limpio

Ventajas principales:

Prototipos rápidos
Capacidad anual superior a 10 millones
Producción libre de estrés
Apoyo para el análisis de la FDM
Control de calidad estricto
Opciones de MOQ competitivas
Soluciones logísticas globales

Soluciones de servicio completo desde la optimización del diseño hasta la producción en masa.

Cuadro de plomo para semiconductores 0

¿Por qué usar el grabado fotográfico?

El grabado fotográfico es una alternativa muy rentable al estampado, corte láser, punción o mecanizado CNC cuando el grosor de las piezas metálicas está entre 0,02 mm y 1,5 mm.

1- Eficaz en cuanto a costes: no se requiere una herramienta de moldeo costosa.
2Muestreo rápido: muestra en 2-3 días, no semanas.
3Alta precisión, micro y complejo.
4Sin coste adicional por complejidad.
5Libre de abolladuras y estrés, sin bordes afilados.
6Producción en masa en días, no en meses.
7- Varias opciones de materiales: acero inoxidable, cobre, latón, aluminio, aleaciones, titanio, etc.
8No tiene efecto sobre el temperamento o el magnetismo del material.

¿Cómo grabar el marco de plomo de nosotros?
1Por favor, envíenos su diseño.
Aceptamos los siguientes formatos de archivo: DWG, DXF, PDF, Step, Gerber, IGES, CorelDraw y Adobe Illustrator
2- Tiempo de fabricación de muestras: 3-10 días
3.Expreso: por DHL, FedEx, TNT, alrededor de 3-7 días.

Etiquetas:

Fotografía grabado químico

Celulas de combustible para placas bipolares

Maquillaje microperforado

el dermaroller microneedle

Discos codificadores

latas de blindaje de PCB

empalmes eléctricos

Componentes de ingeniería de precisión

Grillas de altavoces de metal

Intercambiador de calor de circuito impreso

Proceso de estampado

Grabación en titanio

Grabación química en acero inoxidable

Grabación en níquel

grabado de carrete a carrete

Grabación de aluminio

Grabación química de cobre

Fotografía grabado químico

Celulas de combustible para placas bipolares

Maquillaje microperforado

el dermaroller microneedle

Discos codificadores

latas de blindaje de PCB

empalmes eléctricos

Componentes de ingeniería de precisión

Grillas de altavoces de metal

Intercambiador de calor de circuito impreso

Proceso de estampado

Grabación en titanio

Grabación química en acero inoxidable

Grabación en níquel

grabado de carrete a carrete

Grabación de aluminio

Grabación química de cobre

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Cuadro de plomo para semiconductores

Cuadro de plomo para semiconductores

Conchas de grabado químico

Con un contenido de aluminio superior a 300 g/m2

Grabación química en semiconductores